Konstruksi dan karakterisasi reaktor plasma untuk pembuatan lapisan tipis bahan organik terpolimer

Abstract

Telah dilakukan pernbuatan sistem reaktor plasma untuk menghasilkan polimer plasma dan mendepoSisikan lapisan tipis bahan organik terpolimer sebaga.i isolator pada perangkatikOmponen dengan susunan L-I-S (logam-isolator-semikonduktor). Reaktor ini terdiri dari tip komponen utarna yaitu ruang deposisi, surnber daya radio freknensi dan sistem \Tatum]. Reaktor plasma yang telah diperoleh mampu menghasilkan plasma yang relatif stabil. dan mudah diatur dengar.P. daya lucutan (60 4- 5) watt. fi-ekuevsi keluaran osilator RF (10,280, ± 0,005) MHz, tegangan pendorong (200 + 10) volt dan jangkau tekanan untuk proses pelapisan (2,0 ± 0,1) mbar hingga (3,2 ± 0,1) mbar sebagai vaniabel optimal gum: pengoperasiannya. A Plasma. reactor was constructed to produce the polymer plasma and used to deposit thin organic films polimerized as insulator in metal-insulator¬semiconductor (M-I-S) deviCe structure. This plasma reactor 'consist of three-main parts, i.e: deposition chamber, RF power generator sources and vacuum system. Result shows that, he plasma rector able to produce stable plasMa relatively and an-angable with an discharge power of (60 + 5) wait, RF oscillator frequency of (10,280 + 0,005) MHz, extraction voltage of (200 -I- 10) vol; and interval of pressure for depOsition process was (2,0 -4- 0,1) mbar to (3,2 + 0,1) mbar was found to be optimuM.